项目属于材料科学领域的无机非金属材料学科。我国平板显示产业产能居世界首位。大尺寸平板显示是未来技术发展的必然趋势。目前，用于大尺寸显示高端ITO靶材严重依赖进口，制约我国大尺寸平板显示生产发展，成为从大国走向强国的技术屏障。因此，研发大尺寸高端ITO靶材就是突破技术瓶颈的关键。但材料制备难度大、工艺复杂，面临以下三个挑战：大尺寸靶材高致密度难、多片靶材大面积绑定高焊合率难、薄膜图案化无刻蚀残留难。围绕上述三个难题，在多项国家及省部级项目支持下，经过十多年攻关，突破了粒径可控的ITO粉末制备、大尺寸ITO靶材坯体成型、超高密度ITO靶材烧结、高焊合率背铟绑定及非晶化镀膜等关键技术，形成了高端ITO靶材制造整体技术自主创新，实现了产业化，打破了日韩技术封锁，完善了我国平板显示产业链配套，提升了我国稀有铟深加工能力，推动了我国平板显示产业健康安全发展。主要技术创新如下：创新点1、针对大尺寸ITO靶材难以实现高致密度的瓶颈问题，提出了软硬混合球磨的ITO纳米粉末粒径均匀控制方法，发明了浮动模压与真空覆膜的两步冷挤压坯体成型技术，开发了调控含锡第二相形状的隔热分流与微流量补氧烧结工艺，实现了大尺寸高端靶材制造。单片靶材尺寸由200mm×200mm提升到1000mm×500mm，单边切边废料宽度从18mm降低到3mm，致密度从95.8%提高到99.9%。创新点2、针对多片大尺寸靶材的大面积绑定焊合率低导致易结瘤的难题，开发了超声波辅助热熔融的背铟金属化技术和温度多梯度均匀冷却有效控制收缩率的工艺，实现了多片大尺寸靶材的大面积绑定（1650mm×1431mm），绑定焊合率由92.4%提升到99.9％，并显著改善了靶材溅射结瘤现象，靶材寿命范围内结瘤开腔打磨频次由4次降低到2次。创新点3、磁控溅射ITO薄膜低温易结晶引起的刻蚀残留会导致显示亮点缺陷，研究了靶材第二相分布和薄膜晶化的相关性机理，开发了ITO薄膜低温非晶化镀膜工艺技术，制备的非晶ITO膜可有效解决刻蚀残留问题，并使图案线宽损失降低25%。项目提出了高致密度大尺寸ITO靶材制造技术，开发了高焊合率多片靶材大面积背铟绑定工艺，研制了无刻蚀残留的ITO靶材非晶化镀膜技术，实现了平板显示用高端ITO靶材从粉末、成型、烧结、绑定到镀膜的成套技术产业化。上海市真空学会组织的技术鉴定和上海市科学技术情报研究所科技查新报告均认为项目技术达国际先进水平。成果已推广应用到京东方、华星光电等16条高世代平板显示生产线，并出口美国。项目授权专利27项（其中发明专利18项），发表论文42篇（其中SCI论文33篇）。项目新建年产200吨的ITO靶材生产线，近三年新增经济效益累计4.6亿元（其中完成单位新增效益1.3亿元）。起草国家行业标准1项，获省级新产品1项，获中国电子信息博览会创新奖。产生了显著的经济与社会效益。