该项目属于建筑节能玻璃技术领域，针对目前国内离线低辐射Low-E生产工艺技术和装备等方面存在的问题，通过研发银基低辐射Low-E膜系结构、Low-E玻璃规模化生产镀膜工艺以及高性能磁控溅射镀膜关键设备，建设大规模低辐射Low-E玻璃磁控溅射生产线，解决目前离线低辐射Low-E玻璃热稳定性、抗划伤能力差，不能进行后期钢化或热弯加工，关键制造设备和高端产品依赖进口，生产线运行不稳定等问题，实现拥有自主知识产权的高性能、可钢化、抗环境能力强、适合我国不同地区气候特点的低辐射Low-E玻璃制造，这样镀膜生产线的产量就得到了更大的发挥，根本上解决了异地加工的难题，促进Low-E高效节能玻璃的推广、普及，为建筑节能减排战略作出贡献，同时推动玻璃行业技术进步、升级换代。 本项目成功开发的低辐射Low-E玻璃磁控溅射生产线技术指标和Low-E玻璃主要技术指标为： 1. 机组的生产节拍： >30秒/片 2. 镀膜室本底气压： <3X10-6 mbar 3. 最大加工尺寸： 3300X6000mm 4. 玻璃厚度: 3～19mm 5. 玻璃弯曲度不超过0.2% 6. Low-E玻璃的光学指标： 符合国家标准:低辐射镀膜玻璃GB/T18915.2-2002 7. 辐射率低于0.15 8. 传热系数U值小于2.0 W/(m2.k) 9. 颜色均匀性不大于2.5 CIELAB 色差单位 同进口同类设备相比，本项目自主开发的生产线价格不到进口的2/3,具有明显的经济效益。 本项目在设计、制造生产线中通过对真空腔体制造加工技术和对平面阴极、旋转阴极、在线监测和软件系统等磁控溅射生产线关键设备、以及薄膜磁控溅射工艺的研究开发，提高了磁控溅射镀膜设备的稳定性和可控性，并降低了溅射镀膜成本。 本项目在开发热稳定性好、传热系数小、抗环境能力强、可钢化和热弯Low-E薄膜工艺技术中，采用特殊导电陶瓷介质材料和先进的金属银薄膜保护工艺，将玻璃的可钢化加工特性与Low-E玻璃的保温隔热性能进行了完美的结合，使得最小辐射率达到0.05以下，比同类型Low-E比例有着更低的传热系数和更优的遮阳系数，为用户提供了更多的选择。 本项目得到了国家科技支撑计划子课题“离线Low-E玻璃示范线建设与镀膜设备关键部件研究”的支持（附件6(1)，6(2))，共获得国家专利20项，其中发明专利4项。 到目前为止，已经有2条2540x3660mm单银膜系、1条双银膜系低辐射Low-E玻璃磁控溅射生产线成功投入商业化运行，另有1条双银膜系和1条三银膜系生产线正在制造、安装之中。