研究团队在薄膜研究方面，前期工作主要集中在：1）高性能透明导电薄膜研发。所制备的液晶光学窗口元件实现可见区平均透过率大于90%，明视觉反射率分别为：8度0.24%，15度0.21%，30度0.27%；方块电阻低于13欧姆，理论电磁屏蔽能力优于24dB，经用户确认，性能指标处于国内领先，达到国际先进水平。填补了高性能透明导电薄膜研发的空白，打破了西方国家在该领域的技术垄断。该研究工作为透明导电薄膜关键元件在国防军工产品的装备应用提供理论依据和技术支撑。2）1064带通滤光片制备。所制备的滤光片实现半宽10nm，顶宽5nm；中心波长透过率大于90%；其他波段截止深度为OD3等技术指标，可应用于卫星遥感探测、单模光源、激光测距仪、激光雷达等领域。3）中阶梯厚铝膜制备的技术攻关。高精度中阶梯光栅是在石英/微晶玻璃为基底的厚铝上刻划制作。理论设计要求光栅刻划需要厚度大于7微米、厚度均匀性控制在2% 以内的高质量厚铝膜。传统镀膜工艺技术无法满足要求，团队经过技术攻关，目前厚度为10微米的厚铝膜沉积时间可以控制在20分钟以内，表面温度得到了很好的控制。为高精度、高衍射效率的光栅制作提供了技术支撑，并顺利完成科技部重大科学仪器专项中光谱仪器光栅分光器件及部件的研制中阶梯光栅的制作任务。

目前团队在薄膜光学元件研究领域发表论文20余篇，其中SCI收录10余篇。申请发明专利20件，已授权8件。部分产品已在中国电子科技集团公司第二十七研究所、核工业理化工程研究院、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、中国科学院上海技术物理研究所、上海航天局第八〇二研究所、武汉振光科技有限公司等国内知名从事军工产品研发和生产单位的相关项目推广应用，获得用户的一致好评。